Высокочастотное распыление
Для этой цели, в частности, могут быть использованы распылительные системы с полым катодом. Высокочастотное распыление Высокочастотное Распыление используется главным образом для Получения Пленок диэлектриков, которые практически невозможно получить при распылении на постоянном токе. Кроме того, на смещение на рабочем столе существенное влияние оказывает емкость темного пространства между плазмой и подложками. Включая между изолированным подложкодержателем и зегмлей последовательную 7С-цепочку, можно изменять высокочастотный ток, а следовательно, регулировать смещение на подложках без дополнительного источника ВЧ напряжения. При воздействии на ВЧ разряд аксиального магнитного поля плотность плазмы у стенок уменьшается, а в области подложкодержателя возрастает, в Результате чего ионный ток на подложках и отрицательное смещение на них увеличиваются.
При воздействии на ВЧ разряд аксиального магнитного поля плотность плазмы у стенок уменьшается, а в области подложкодержателя возрастает, в результате чего ионный ток на подложках и отрицательное смещение на них увеличиваются.